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关于研磨抛光的两个过程介绍

发布时间:2020-10-10浏览:5次
   研磨抛光机可以定时操作,采用的是智能机界面操作系统。对工件的尺寸精度、形状精度和位置精度等原有的精度保持不变或略有提高,起到工作美容的作用。
  
  研磨抛光机专门从事金属和非金属材料中小型精密零件的去毛刺,倒角,倒角,倒角,倒角,倒角,除锈,机械工具打标,精密抛光,镜面抛光和其他关键技术问题。在抛光过程中不会损坏工件,并且工件的尺寸精度也不会改变。可以根据用户需要设计和定制。
  
  一、研磨分为两个过程:
  
  1、平面研磨
  
  这通常是研磨过程的开始。平面研磨可确保所有样本的表面均相似,尽管它们的初始状态和先前进行过处理。此外,当在固定器中处理多个样本时,在进行下一步精细研磨之前,必需注意确保它们都处于同一水平或“平面”。为了获得高且一致的材料去除率,较短的研磨时间和较大的平整度,对于平面研磨,使用具有较大晶粒尺寸的固定的晶粒。合适的PG表面将提供的平面试样,从而减少了随后的精细研磨步骤的准备时间。另外,某些表面可以提供良好的边缘保持力。在磨损过程中,会露出新的磨粒,从而确保始终如一地去除材料。
  
  2、精磨
  
  精磨产生的表面变形很小,在抛光过程中很容易去除。由于砂纸的缺点,可以使用其他精细研磨的复合材料表面,以改善和促进精细研磨。通过使用15、9.0和6.0µm的晶粒度,可以获得较高的材料去除率。这是在具有特殊复合材料表面的硬质复合磁盘(刚性磁盘)上完成的。因此,连续供给的金刚石晶粒被嵌入表面并提供精细的研磨作用。使用这些圆盘,可以获得非常平坦的样本表面。在细磨盘上使用金刚石磨料可确保均匀地从硬相和软相中去除材料。没有软相污迹或脆性相碎裂,并且样品将保持的平面度。随后的抛光步骤可以在很短的时间内完成。
  
  二、抛光
  
  像打磨一样,抛光用于去除先前步骤中残留的损坏。这是通过自动抛光机依次磨细颗粒的步骤来实现的。抛光分为两个不同的过程:
  
  1、钻石抛光
  
  金刚石被用作研磨剂,以实现较快的材料去除和较佳的平面度。没有其他可用的研磨剂可以产生类似的结果。由于其硬度,钻石在所有材料和各相中的切割效果都非常好。
  
  在抛光过程中,需要较小的切屑尺寸以获得没有刮擦和变形的样品表面。为了获得接近于零的切屑尺寸,使用了更多的弹性布以及较小的晶粒尺寸,例如3.0或1.0μm。较小的力作用在样品上也会减小抛光过程中的切屑尺寸。
  
  2、氧化物抛光
  
  某些材料,尤其是柔软且易延展的材料,需要进行抛光,并使用氧化物抛光以获得好质量。具有约0.04μm的粒径和约9.8的pH的胶态二氧化硅已显示出显着的结果。化学活性与细腻,柔和的磨损相结合,可产生无刮擦和无变形的样品。
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