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  • RIE-10NR日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备
    RIE-10NR日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备
    型号:RIE-10NR
    浏览量:862

    RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统,能够满足非腐蚀性气体化学最ke刻的工艺要求。 计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计,RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。

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  • Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80
    Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80
    型号:
    浏览量:1238

    Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

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