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半导体裂片机的高精度切割技术是如何实现的?

更新时间:2025-10-31浏览:64次
半导体裂片机的高精度切割技术主要通过高精度的机械系统、先进的切割工艺、智能的控制系统以及精准的视觉定位系统等方面来实现,以下是具体介绍:
 
高精度机械系统
 
精密运动部件:采用进口直线电机与光栅尺闭环系统,结合实时反馈算法,能够确保切割路径的纳米级重复精度。例如博捷芯双轴划片机通过双轴独立运行,定位精度达±1μm。
 
稳定的主轴系统:主轴系统采用空气静压轴承,转速可达60000rpm,径向跳动小于0.1μm,为切割提供稳定的动力输出,保证切割的精度和稳定性。
 
抗震与固定装置:抗震工作台结合真空吸附夹具,能够消除微米级振动干扰,确保晶圆在切割过程中无偏移,为高精度切割提供稳定的基础。
 
先进的切割工艺
 
刀片优化:针对不同的半导体材料,如硅、砷化镓、碳化硅等,定制金刚石刀片颗粒度,如#2000超细砂轮,可减少切割面毛刺并延长刀片寿命。刀片厚度通常为15-50μm,通过电镀或烧结工艺将金刚石颗粒固定在镍基体上,平衡耐磨性与切割效率。
 
激光切割技术:对于超薄晶圆或硬脆材料,如GaN、蓝宝石等,采用激光隐形切割技术。使用1064nm皮秒激光透过晶圆表面聚焦于内部,通过多光子吸收效应形成改性层,然后通过扩展膜拉伸分离芯片,避免物理接触,可将切割道宽度控制在10μm以内,减少崩边。
 
复合切割工艺:针对GaN、SiC等硬脆材料,采用激光预刻蚀+金刚石刀片精切的混合工艺,将切割道宽度从50μm压缩至15μm,提高了晶圆利用率。
 
智能控制系统
 
动态参数智能调节:基于切割阻力实时监测的智能刀压调节系统,可适配SiC、GaN等硬脆材料,控制崩边<10μm,降低晶粒损耗。同时根据晶圆厚度及材质动态调整切割速度、主轴转速等参数,优化切割深度一致性。
 
数据追溯与系统集成:实时记录切割参数,如刀压、转速等与设备状态,无缝对接MES系统,实现全流程质量追溯。开放式控制器架构支持远程运维与工艺参数云端优化,提升设备利用率。
 
精准的视觉定位系统
 
高精度视觉识别:通过高分辨率CCD视觉系统自动识别晶圆Mark点,精度可达±3μm,支持不规则切割路径规划,降低人工校准误差。在切割过程中,视觉系统还可以实时监测切割位置,确保切割的准确性。
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