服务热线:
13917975482
技术支持

您现在的位置:首页  >  技术文章  >  反应离子刻蚀机的特点

反应离子刻蚀机的特点

更新时间:2023-04-18浏览:573次
反应离子刻蚀机是一种用于信息科学与系统科学、材料科学领域的工艺试验仪器,于2016年9月30日启用。
 
反应离子刻蚀机在射频电源驱动下,在上下电极间形成电压差、产生辉光放电,反应气体分子被电离生成等离子体;根据功率、气体、衬底材料等不同条件,等离子体中的游离基与被刻蚀的材料发生化学反应,生成能够由气流(真空系统)带走的挥发性化合物,而被光刻胶或介质掩膜所覆盖的衬底材料,则没有产生上述化学反应,从而实现各向异性刻蚀。
 
系统特点:
●  小型系统 —— 易于安置
●  优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制
●  高导通的径向(轴对称)抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率
●  增加<500毫秒的数据记录功能—— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录
●  近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度
●  关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单
●  X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配
●  通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快
●  用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料(如金属)的边界
●  用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测
似空科学仪器(上海)有限公司 版权所有    备案号:沪ICP备18020550号-3

技术支持:化工仪器网    管理登陆    网站地图

联系电话:

微信服务号