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品牌 | 其他品牌 | 晶圆尺寸 | 8英寸 |
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尺寸 | 500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高) | 反应室尺寸 | φ340mm |
反应离子刻蚀机
SAMCO RIE-10NR
简介: RIE-10NR是一种新型的低成本、 高性能、全自动反应离子刻蚀系统, 能够满足非腐蚀性气体化学最KE刻 的工艺要求。 计算机化触摸屏为工艺配方编 程和存储提供了用户友好的界面。 该系统可以实现精确的侧壁轮 廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。 凭借其圆滑、紧凑的设计, RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。 应用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、 砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的 腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。 | |
主要参数规格: | |
基板 | 220 mm(ø3“x 5,ø4"x 3,ø8"x 1) |
负载 | 开放式 |
上下电极 | ø240 mm |
射频功率 | 300瓦@13.56兆赫,自动匹配(500瓦为选项) 可切换射频供电电极(阳极/阴极模式)为选项 |
气体管道 | 内部2条MFC控制的气体管道(最多6条) |
泵 | 干泵(500升/分钟) |
操作系统 | 触摸屏操作(可选择基于Windows的用户界面)、配方管理 |
端点检测 | 光学发射光谱(OES)作为一种选择 |
尺寸 | 500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高) |