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离子溅射仪 MC1000

简要描述:日立MC1000离子溅射仪
产品介绍:日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2019-08-17
  • 访  问  量:230
  • 产品简介

采用磁控型电极,最大限度地减轻对样品的损坏。

离子溅射仪 MC1000特色

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)
  • 记忆功能可存储常用加工条件

离子溅射仪 MC1000规格

项目说明
放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)
电压最大 0.4 kV DC(直流可变)
电流最大 40 mA DC
喷镀速率 *1(最大)
[条件]
压力:7 Pa
放电电流:40 mA
标靶与样品表面之间的距离:20 mm
Pt 靶(选配件)15 nm/min
Pt-Pd 靶(选配件)20 nm/min
Au 靶(选配件)35 nm/min
Au-Pd 靶(选配件)25 nm/min
样品尺寸最大直径φ60 mm
最大高度20 mm
机械泵135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
电源要求单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)
尺寸宽度450 mm
长度391 mm
高度390 mm
重量主机:约 25 kg
机械泵:约 28 kg

*1

: 喷镀速率仅供参考

*2

: 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂,铂-钯,金,金-钯)。

 

应用领域:

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

  

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