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FIB聚焦离子束

简要描述:Hitachi聚焦离子束 IM4050:MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有shi界的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。

  • 产品型号:MI4050
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-09-26
  • 访  问  量:1979
  • 产品简介
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域电子
  日立新型FIB…智能聚焦离子束系统 IM4050
 
  自1986年以来,通过多年的fIB经验,MI 4050被赋予了高度稳定的离子源,所建立的离子光学使锐利的光束剖面和高束电流能够成像各种功能。 DED功能涵盖对FIB的广泛需求,如气体化学MI 4050可以帮助您推进您的研究和开发。
 
  MI 4050特征
 
  经过验证的聚焦离子束技术既能实现高分辨率、高对比度的SIM成像,又能快速、大面积FIB铣削。
 
  良好的梁稳定性,级精度和控制软件允许高精度的自动铣削加工。
 
  微采样系统和低压FIB能力支持现场高质量TEM样品制备。
 
  ​
 
  大电流FIB使铣削面积更大,材料更坚硬,并且比以往任何时候都更高的吞吐量。高通量离子研磨有助于减少像树脂emb这样的样品准备步骤。 编辑和机械抛光。此外,也可以避免因抛光而产生的样品应变或分层。
 
  大电流为90 nA的高性能FIB
 
高分辨率、高对比度SIM成像。
 
  保证了4nm的高分辨率。高对比度SIM从低放大率成像到高放大率。
 
自动切割的三维结构分析
 
用微取样法制备现场高质量TEM样品
 
  微取样系统
 
       主要特点:
 
  1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率:4nm@30kV
 
  2.高分辨、高衬度SIM成像
 
  3.全自动TEM样品制备
 
  4.大尺寸样品加工
 
  应用领域:
 
  1.纳米材料微加工
 
  2.半导体及电子元器件材料
 
  3.生命科学
 

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