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Hitachi离子溅射

简要描述:Hitachi离子溅射采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件)。

  • 产品型号:MC1000
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-05-24
  • 访  问  量:914
  • 产品简介
品牌其他品牌价格区间面议
出料粒度0.01mm以下样品适用硬性样品
仪器种类研磨机产地类别进口
应用领域电子

日立离子溅射仪 MC1000 

 
采用磁控型电极使样品损伤最小化

 

LCD触摸屏设
计操作简单适

 

记忆功能存
储处理方案

 

适用复杂样品

 

 

特点

 

● Hitachi离子溅射采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

● 可处理较厚或较大的样品(选配件)

● Hitachi离子溅射记忆功能可存储常用加工条件

 

 

技术规格

 
  
项目描述

放电

类型

磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)

电极组成

反向平行盘(嵌入磁铁)

电压

最大 0.4 kV DC(直流可变)

电流

最大 40 mA DC

喷镀速率 *1(最大)
[条件]
压力:7 Pa
放电电流:40 mA
标靶与样品表面之间的距离:20 mm

Pt 靶(选配件)

15 nm/min

Pt-Pd 靶(选配件)

20 nm/min

Au 靶(选配件)

35 nm/min

Au-Pd 靶(选配件)

25 nm/min

样品尺寸

最大直径 

φ60 mm

最大高度

20 mm

机械泵

135/162 l/min (50/60Hz)

靶材*2

Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)

电源要求

单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)

尺寸

宽度

450 mm

长度

391 mm

高度

390 mm

重量

主机:约 25 kg
机械泵:约 28 kg

*1: 喷镀速率仅供参考

*2: 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂,铂-钯,金,金-钯)。

 

选配附件

 
项目描述

膜厚/温度控制单元*1

镀层厚度控制范围:1nm 至 30nm
温度控制范围:室温至低于室温-25℃

蒸镀单元

蒸镀碳(铅笔芯)

大样品仓*2

最大直径:φ150mm 最大高度:20mm

变压器

适用电压:115,200,208,220,230,240V

*1﹠*2.需要同主机同时配置,*1不需要大样品仓

 

安装要求

 
项目描述

室温

15 ~ 30℃

相对湿度

≤85%

主机功率

AC 100V (±10%) ,50/60Hz,1.25kVA

接地地阻

≤100Ω

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